Aparat iPhone’a 16 Pro mniej podatny na artefakty?
Apple podobno testuje nową technologię antyrefleksyjnej powłoki optycznej dla przyszłych aparatów iPhone’a, która może poprawić jakość zdjęć poprzez redukcję artefaktów, takich jak flara obiektywu i tzw. ghosting.
Według konta agregatora wiadomości „yeux1122” na koreańskim blogu Naver, powołującego się na źródło w łańcuchu dostaw Apple, Apple rozważa wprowadzenie nowego sprzętu do osadzania warstw atomowych (ALD) w procesie produkcji obiektywu aparatu iPhone’a.
ALD polega na osadzaniu materiałów po jednej warstwie atomowej na raz na podłożu, co pozwala na niezwykle precyzyjną kontrolę grubości i składu. Jego zastosowanie pozwala producentom nakładać bardzo cienkie warstwy materiałów na urządzenia półprzewodnikowe, w tym komponenty kamer.
Jeśli chodzi o obiektywy aparatów, ALD może być stosowany do nakładania powłok antyrefleksyjnych, które mogą pomóc w redukcji artefaktów fotograficznych, takich jak smugi światła i aureole, które mogą pojawić się na końcowym obrazie, gdy jasne źródło światła, takie jak słońce, świeci bezpośrednio w obiektyw.
ALD może również redukować efekt ghosting, czyli rodzaj zniekształcenia obrazu, w którym na zdjęciu pojawiają się słabe, wtórne obrazy, zwykle naprzeciwko jasnego źródła światła. Dzieje się tak, gdy światło odbija się tam i z powrotem między powierzchniami elementów obiektywu a czujnikiem aparatu.
Ponadto materiały stosowane w technologii ALD mogą chronić system obiektywu kamery przed uszkodzeniami środowiskowymi bez wpływu na zdolność czujnika do skutecznego przechwytywania światła.
Prawdopodobnie nowa powłoka zadebiutuje tylko w modelach iPhone’ów 16 Pro.